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フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 工業調査会, 1996. <BB00908011>
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フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 工業調査会, 1996. <BB00908011>
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No. 所蔵館 配置場所 文庫名 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 本館 4F第2開架閲覧室 K/549/F41 106201460 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 本館
配置場所 4F第2開架閲覧室
文庫名
請求記号 K/549/F41
巻号
年月次
資料ID 106201460
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

タイトル・著者名 フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える / 田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著
フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ : チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル
出版 東京 : 工業調査会 , 1996.8
形態事項 262p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311494
その他のタイトル その他のタイトル:超LSI、液晶、プリント板を支えるフォトマスク技術のはなし
チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ
注記 参考文献: 各章末
NCID BN15133386
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 田辺, 功(1937-)||タナベ, イサオ <AU00028861>
著者標目リンク 竹花, 洋一||タケハナ, ヨウイチ <AU00169972>
著者標目リンク 法元, 盛久||ホウガ, モリヒサ <AU00170042>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 NDC7:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND386
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 集積回路||シュウセキカイロ
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
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