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超LSIレジストの分子設計
津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB00384681>
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超LSIレジストの分子設計
津田穣著. -- 共立出版, 1990. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11). <BB00384681>
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所蔵館
配置場所
文庫名
請求記号
巻号
年月次
資料ID
状態
返却予定日
予約
0001
本館
4F第2開架閲覧室
K/549/Ts34
105109482
配架済
0件
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0001
所蔵館
本館
配置場所
4F第2開架閲覧室
文庫名
請求記号
K/549/Ts34
巻号
年月次
資料ID
105109482
状態
配架済
返却予定日
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書誌詳細
タイトル・著者名
超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ
出版
東京 : 共立出版 , 1990.4
形態事項
v, 117p ; 19cm
巻号情報
ISBN
4320085116
シリーズ
表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB00461089> 11//a
注記
文献: p[110]-113
NCID
BN04656779
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
津田, 穣(1935-)||ツダ, ミノル <AU00148977>
分類標目
電子工学 NDC8:549.7
分類標目
高分子化学工業 NDC8:578.4
分類標目
NDC7:549.8
分類標目
科学技術 NDLC:PA441
件名標目等
集積回路||シュウセキカイロ
件名標目等
工業材料||コウギョウザイリョウ
件名標目等
薄膜||ハクマク
件名標目等
感光性樹脂||カンコウセイジュシ
件名標目等
集積回路||シュウセキカイロ
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電子工学 NDC8:549.7
高分子化学工業 NDC8:578.4
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科学技術 NDLC:PA441
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