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最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術

逢坂哲彌,二瓶公志編集. -- 広信社, 1987. <BB00370209>
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No. 所蔵館 配置場所 文庫名 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 本館 2Fブルー区画 /501/Sa22 105206874 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 本館
配置場所 2Fブルー区画
文庫名
請求記号 /501/Sa22
巻号
年月次
資料ID 105206874
状態 配架済
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

タイトル・著者名 最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術 / 逢坂哲彌,二瓶公志編集
サイシン キノウ セイマク プロセス ギジュツ : エレクトロニクス ニ オケル キノウマク サクセイ ギジュツ
出版 東京 : 広信社 , 1987.6
形態事項 862p ; 27 cm
注記 各章末:文献
NCID BN01531664
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 逢坂, 哲彌(1945-)||オオサカ, テツヤ <AU00135782>
著者標目リンク 二瓶, 公志(1937-)||ニヘイ, コウジ <AU00222736>
分類標目 化学工学.化学機器 NDC8:571.4