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シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで

谷口研二[編]. -- リアライズ社, 1991. <BB01089466>
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シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで

谷口研二[編]. -- リアライズ社, 1991. <BB01089466>
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No. 所蔵館 配置場所 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 石巻 開架図書(2F) /549.8/Ta87 000004804 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(2F)
請求記号 /549.8/Ta87
巻号
年月次
資料ID 000004804
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

タイトル・著者名 シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで / 谷口研二[編]
シリコン ネツ サンカ マク ト ソノ カイメン : キソ ブッセイ カラ チョウ LSI エノ オウヨウ マデ
出版 東京 : リアライズ社 , 1991.7
形態事項 422p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4947655445
注記 各章末:参考文献
NCID BN1064502X
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 谷口, 研二(1948-)
タニグチ, ケンジ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 シリコン(半導体)||シリコン(ハンドウタイ)
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