石巻専修大学図書館

イオンビームによる薄膜設計

山田公著. -- 共立出版, 1991. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 15). <BB00388066>
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No. 所蔵館 配置場所 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 石巻 開架図書(2F) /501.4/Y19 000094805 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(2F)
請求記号 /501.4/Y19
巻号
年月次
資料ID 000094805
状態 配架済
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

タイトル・著者名 イオンビームによる薄膜設計 / 山田公著
イオン ビーム ニヨル ハクマク セッケイ
出版 東京 : 共立出版 , 1991.9
形態事項 v, 114p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4320085159
シリーズ 表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <BB00461089> 15//a
注記 文献: 各章末
NCID BN06866284
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU00153650>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム
件名標目等 薄膜||ハクマク