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プラズマプロセシングの基礎

Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB01067155>
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プラズマプロセシングの基礎

Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB01067155>
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所蔵一覧 1件～2件（全2件）

No. 所蔵館 配置場所 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 石巻 開架図書(2F) /427/C33 000042333 配架済 0件
0002 石巻 開架図書(2F) /427/C33 000042341 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(2F)
請求記号 /427/C33
巻号
年月次
資料ID 000042333
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
No. 0002
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(2F)
請求記号 /427/C33
巻号
年月次
資料ID 000042341
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

タイトル・著者名 プラズマプロセシングの基礎 / Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳
プラズマ プロセシング ノ キソ
出版 東京 : 電気書院 , 1985.11
形態事項 13, 391p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4485661180
その他のタイトル 原タイトル:Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
注記 Glow discharge processes, c1980 の翻訳
注記 参考文献: p[357]-386
NCID BN00319697
本文言語コード 日本語
著者標目リンク Chapman, Brian N. <>
著者標目リンク 岡本, 幸雄
オカモト, ユキオ <>
分類標目 電磁気学 NDC8:427.6
分類標目 科学技術 NDLC:MC241
件名標目等 プラズマ||プラズマ
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