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プロセスの低温化

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1985. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8). <BB01067330>
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プロセスの低温化

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1985. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8). <BB01067330>
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No. 所蔵館 配置場所 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 石巻 開架図書(2F) /549/H29 000111567 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(2F)
請求記号 /549/H29
巻号
年月次
資料ID 000111567
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

タイトル・著者名 プロセスの低温化 / 西澤潤一編
プロセス ノ テイオンカ
出版 東京 : 工業調査会 , 1985.3
形態事項 10,331p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4769310439
シリーズ 半導体研究 / 半導体研究振興会編||ハンドウタイ ケンキュウ <> 21巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 8//bb
注記 執筆:石川潔ほか
注記 各章末:参考文献
NCID BN00282757
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)
ニシザワ, ジュンイチ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
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