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Chemical vapor deposition : principles and applications

edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen. -- Academic Press, 1993. <BB01058732>
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Chemical vapor deposition : principles and applications

edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen. -- Academic Press, 1993. <BB01058732>
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No. 所蔵館 配置場所 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 石巻 開架図書(3F) /432.2/H77 010187862 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(3F)
請求記号 /432.2/H77
巻号
年月次
資料ID 010187862
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

タイトル・著者名 Chemical vapor deposition : principles and applications / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
出版 London : Academic Press , c1993
形態事項 v, 677 p. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0123496705
注記 Index:p.[663]-677
NCID BA19797477
本文言語コード 英語
著者標目リンク Hitchman, Michael L. <>
著者標目リンク Jensen, Klavs F., 1952- <>
分類標目 DC20:671.735
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