石巻専修大学図書館

Film deposition by plasma techniques

Mitsuharu Konuma ; : Germany, : New York. -- Springer-Verlag, 1992. -- (Springer series on atoms + plasmas ; 10). <BB01056690>
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No. 所蔵館 配置場所 請求記号 巻号 年月次 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 石巻 開架図書(3F) /427.6/Ko78 : Germany 010188282 配架済 0件
No. 0001
所蔵館 石巻
配置場所 開架図書(3F)
請求記号 /427.6/Ko78
巻号 : Germany
年月次
資料ID 010188282
状態 配架済
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

タイトル・著者名 Film deposition by plasma techniques / Mitsuharu Konuma
出版 Berlin ; Tokyo : Springer-Verlag , c1992
形態事項 ix , 224 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
巻次等 : Germany
ISBN 3540540571
巻号情報
巻次等 : New York
ISBN 0387540571
シリーズ Springer series on atoms + plasmas <> 10//a
その他のタイトル その他のタイトル:プラズマと成膜の基礎
プラズマ ト セイマク ノ キソ
注記 Based on: Purazuma to seimaku no kiso / Mitsuharu Konuma. Cf. Pref
注記 Includes bibliographical references and index
NCID BA14397573
本文言語コード 英語
著者標目リンク *小沼, 光晴(1950-)
コヌマ, ミツハル <>
分類標目 LCC:TK7871.15.F5
分類標目 DC20:621.381/52
件名標目等 Thin films
件名標目等 Plasma-enhanced chemical vapor deposition